消息称ASML明年推出用于2nm芯片制造的高NA光刻机，英特尔已采购6台

来源：YPS数据挖掘大师 2023-12-20 浏览：141 字号：T|T

摘要：YPS行业门户系统12月19日消息，SamMobile消息称，ASML将于未来几个月内推出用于2nm制程节点的芯片制造设备，将数值孔径（NA）光学性能从0.33提高到0.55，而三星计划在2025年底开始生产2nm芯片。据称，ASML明年规划产能仅有10台，而英特尔已经预订了其中6台，不过ASML计划在未来几年内将此设备产能提高到每年20台。目前，ASML官网列出的EUV光刻机仅有两款——NXE:……

　　YPS行业门户系统 12 月 19 日消息，SamMobile 消息称，ASML 将于未来几个月内推出用于 2nm 制程节点的芯片制造设备，将数值孔径（NA）光学性能从 0.33 提高到 0.55，而三星计划在 2025 年底开始生产 2nm 芯片。

　　据称，ASML 明年规划产能仅有 10 台，而英特尔已经预订了其中 6 台，不过 ASML 计划在未来几年内将此设备产能提高到每年 20 台。

　　目前，ASML 官网列出的 EUV 光刻机仅有两款 ——NXE:3600D 和 NXE:3400C，均配备 0.33 NA 的反射式投影光学器件及 13.5nm EUV 光源，分别适用于 3/5nm 和 5/7nm 芯片制造。

　　▲ NXE:3600D

　　ASML 发言人曾透露，EXE:5200 是 ASML 下一代高 NA 系统，具有更高的光刻分辨率，可将芯片缩小 1.7 分之一，同时密度增加至 2.9 倍。

　　▲ ASML 高 NA 系统路线图

　　之前的报道显示，ASML 第一台 0.55 NA EUV 光刻机计划于 2025 年后量产，第一台将交付给英特尔。

　　英特尔发言人称，公司将成为 ASML 第一台 EXE:5200 的买家。与 EXE:5000 相比，EXE:5200 预计将带来几项改进，包括更高的生产率等等。

　　根据 Gartner 分析师 Alan Priestley 的预测，0.55 NA EUV 光刻机单价将翻番到 3 亿美元（YPS行业门户系统备注：当前约 21.42 亿元人民币）。

　　广告声明：文内含有的对外跳转链接（包括不限于超链接、二维码、口令等形式），用于传递更多信息，节省甄选时间，结果仅供参考，YPS行业门户系统所有文章均包含本声明。

　　投诉水文

　　我要纠错

关于