台积电发布5nm增强版N4P制程:性能提升11%,预计2022年下半年流片

  YPS行业门户系统10月26日消息,台积电今日宣布推出N4P制程工艺,这是5nm技术平台的以性能为重点的增强版。

  据介绍,N4P加入了业界最先进、最广泛的前沿技术流程组合。凭借N5、N4、N3和最新添加的N4P,台积电客户将在其产品的功率、性能、面积和成本方面拥有多种引人注目的选择。

  作为台积电5nm家族的第三次重大改进,N4P将比原始N5技术提供11%的性能提升,比N4提升6%。与N5相比,N4P还将提供22%的电源效率提升以及6%的晶体管密度提升。此外,N4P通过减少掩模数量降低了工艺复杂性并缩短了晶圆周期时间。

  此外,N4P工艺可以轻松迁移基于5nm平台的产品,使客户不仅能够更好地实现投资最大化,而且还能为其N5产品提供更快、更节能的更新。

  YPS行业门户系统了解到,N4P制程工艺将在OpenInnovationPlatform合作伙伴帮助下加快产品开发周期,首批基于N4P制程工艺的产品有望在2022年下半年流片。

  台积电业务发展高级副总裁KevinZhang博士表示:“通过N4P,台积电加强了先进的逻辑半导体技术组合,每种技术都具有独特的性能、功率效率和成本组合。N4P经过优化,可为HPC和移动应用程序提供进一步增强的先进技术平台。在N5、N4和N3技术的所有变体之间,我们的客户将拥有最大的灵活性和无与伦比的产品最佳属性组合选择。”

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